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検索結果：機器訪問利用カテゴリ「切削」（3件）

- 群馬県
3成分切削動力計

工作機械の加工テーブル等に設置し、切削または研削加工時に、切削工具や工作物に発生する3次元方向の抵抗力を測定する装置です。
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- 神奈川県
ウルトラミクロトーム：　UC7

厚さ100nm以下の透過電子顕微鏡用の超薄切片を作製することが出来ます。

おすすめ

ダイヤモンドナイフを用いてバルク試料を切削し、厚さ100nm以下の透過電子顕微鏡用の超薄切片を作製することが出来ます。一方、SEMあるいはAFM観察で必要な高い面精度の断面作製にも活用できます。

可能な実験例

超薄切片の作製
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- 茨城県
CVD装置

薄膜(はくまく)形成装置の一つで、半導体の表面に薄い膜を堆積する装置です。

可能な実験例

◯酸化物系の成膜
原料に酸素含有ガスを用いることにより、酸化物薄膜が形成できます。例として絶縁膜などに利用されるSiOやAl2O3、強誘電体として利用されるPZT、超伝導体YBCOなどが成膜できます。その他にも多くの酸化物が研究されています。

◯化合物系の成膜
化合物系薄膜が成膜できます。例として太陽電池や高速通信などに用いられるGaAs、LEDなどに用いられるGaN、パワーデバイスなどに用いられるSiCなどが挙げられます。

◯シリコン系の成膜
広く産業用途で用いられるSiを成膜できます。エピタキシャルSi、polySi、アモルファスSiなど、様々な状態のSiが成膜できます。

◯2次元層状化合物の成膜
近年活発に研究されているグラフェンや金属カルコゲナイドなどを成膜することができます。

◯表面処理
必ずしも平坦でない対象物表面にも処理できるため、凹凸の多い対象の表面処理などに用いられます。例として切削工具などの耐摩耗性を向上させるTiC、TiCNなどがあります。

※組織により上記実験ができない場合がございます。
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3成分切削動力計

ウルトラミクロトーム： UC7

おすすめ

可能な実験例

CVD装置

可能な実験例

◯酸化物系の成膜

◯化合物系の成膜

◯シリコン系の成膜

◯2次元層状化合物の成膜

◯表面処理

ウルトラミクロトーム：　UC7