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検索結果:機器訪問利用カテゴリ「寸法」(6件)

    • Ic pin 栃木県
    • 機器訪問利用

    恒温槽

    Thumb 8cb849f8 e34b 4cd5 a81e 214dd9206eea

    ・槽内の温度・湿度を制御することができ高温から低温のストレスを与え信頼性の評価が可能 ・プログラム運転可能で電池評価用の安全増し装備も付帯

    <主性能(能力範囲)>
    温度範囲:-40~+100℃
    槽内寸法:W1150×D700×H700[mm]
    開口部寸法(配線等出入り口) Φ100㎜×2
    安全増し装備:水素ガス検知、槽内圧検知

    可能な実験例

    ・高温試験
    ・低温試験
    ・温度サイクル試験

    用途例

    ・第2のラボとして!
    ・研究プロジェクトを始める前の予備実験などに!
    ・自社で行えないサイドプロジェクトを行う場としての使用

    各温度域での温度ストレスによる製品特性、物性の劣化評価

    • Ic pin 栃木県
    • 機器訪問利用

    オーブン槽

    Thumb 16efa611 c853 4111 ba00 831778b707af

    連続的に高温のストレスを与えられ信頼性の評価や熱処理に使用可能

    <主性能(能力範囲)>
    温度範囲:(外周温度+20)℃~200℃
    槽内寸法:W800×D800×H1200[mm]
    開口部寸法(配線等出入り口) Φ100㎜×4

    可能な実験例

    ・高温放置試験
    ・高温作動試験
    ・熱処理

    用途例

    ・第2のラボとして!
    ・研究プロジェクトを始める前の予備実験などに!
    ・自社で行えないサイドプロジェクトを行う場としての使用

    高温度域での温度ストレスによる製品特性、物性の劣化評価

    • Ic pin 栃木県
    • 機器訪問利用

    熱衝撃試験機

    Thumb 368576db a672 44a1 97aa 732284b7e6d2

    ・高温と低温のストレスを短時間で交互に繰り返し与え、信頼性の評価が可能 ・テストエリアが移動しない試料静止型のため、移動による(試料への)振動ストレスが無く、より正確な試験結果が得られ、試料の移し換えも不要の為、試験時間を短縮することが可能

    <主性能(能力範囲)>
    温度:-75℃~205℃
    槽内寸法:W410×D370×H460[mm]
    試験品最大重量:30kg
    開口部寸法(配線等出入り口):Φ50㎜×1

    可能な実験例

    熱衝撃試験

    用途例

    ・第2のラボとして!
    ・研究プロジェクトを始める前の予備実験などに!
    ・自社で行えないサイドプロジェクトを行う場としての使用

    高温と低温の短時間ストレスを与え、製品特性、物性の劣化評価

    • Ic pin 栃木県
    • 機器訪問利用

    減圧試験機

    Thumb ced63646 1786 4944 9a51 d36c96fad085

    高地での使用や航空機輸送を想定し、製品が受ける減圧環境と温度を加味して再現できる試験装置

    <主性能(減圧、恒温性能)>
    圧力(kPa): 9 〜 大気圧 (高度 23,000m相当, -20℃)
    温度(℃): -20 ~ +80
    槽内寸法(mm): W800×D800×H709
    圧力下降時間: 大気圧 → 11.6kPa, 60分以内で安定

    可能な実験例

    高度試験
    高度シミュレーション
    減圧環境下での絶縁性能低下確認 など

    用途例

    ・第2のラボとして!
    ・研究プロジェクトを始める前の予備実験などに!
    ・自社で行えないサイドプロジェクトを行う場としての使用

    • Ic pin 茨城県
    • 機器訪問利用

    ドライエッチング装置

    Thumb 403ec9bb 3fc7 415f aeee 37d67be7dc2d

    プラズマを利用したガスによって加工する方法をドライエッチングと呼び、半導体に精密な凹凸を形成することができます。

    可能な実験例

    〇バレル型プラズマエッチング装置

    円筒型の石英管の周りに電磁誘導コイル、または一対の容量結合電極を設置し、RFパワーを印加することによってプラズマが生成されます。
    レジストのアッシングに用いられています。

    〇CCPプラズマエッチング装置

    CCP(容量結合型プラズマ)は平行平板型の一対の電極間にRFパワーを印加することによってプラズが生成されます。平行平板型RIE(反応性イオンエッチング)装置とも呼ばれています。
    SiO2のエッチングに用いられています。

    〇マグネトロンRIE装置

    電界と磁界の相互作用で電子をサイクロイド運動させることによって、高密度プラズマが生成されます。RIEに永久磁石または電磁コイルで形成した磁界を加えたものです。
    SiO2のエッチングに用いられています。

    ○ECRプラズマエッチング装置

    ECRとは電子サイクロトロン共鳴と呼ばれ、マイクロ波の電界と磁場の静磁界の共鳴作用で電子がサイクロトロン運動をするので、高密度プラズマを生成することが出来ます。
    導電性材料であるゲート材料やSi、Al配線などの微細加工に用いられています。

    ○ICPプラズマエッチング装置

    ICPとは誘導結合型プラズマと呼ばれ、高周波電流をコイルに流して形成された磁界によって高密度プラズマが生成されます。
    導電性材料であるゲート材料やSi、Al配線などの微細加工に用いられています。

    ○ヘリコーン波プラズマエッチング装置

    ICPプラズマエッチング装置にさらに直流磁界を付加して高密度プラズマを生成する装置です。


    ※組織により上記実験ができない場合がございます。

    • Ic pin 神奈川県
    • 機器訪問利用

    【神奈川】BIC (Built In Chamber) 恒温恒湿槽

    Thumb affa883e a285 4b7d ba72 f8d9097c96a7

    ウオークインチャンバー内の温度、湿度を独立に制御し、温湿度環境をプログラマブルに制御できる部屋です。 長時間に渡って一定の温湿度を保ったり、温湿度サイクルを印可する環境試験を行うことができます。

    可能な実験例

    ・製品/試作機などの周囲環境評価
    ・エージング
    など

    用途例

    ・モニター設置環境試験
    ・機器の温度上昇試験
    ・耐湿度試験
    ・環境が人に及ぼす影響評価
    などの性能試験や信頼性評価試験に利用できます。

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