半導体製造・薄膜加工プロセス向け数値計算／シミュレーションシステム導入支援・産学連携支援・コンサルティング

詳細・スペック

ユーザー登録限定コンテンツ

無料登録で料金など全ての情報を閲覧可能

ユーザー登録（無料）

ユーザー登録済みの方はこちらからログイン

詳細・スペック

半導体製造・薄膜加工は伝統的に日本の得意分野であり、各大学で卓越した実験研究が進められていますが、同時に数値計算／シミュレーションについても優れた研究が多くなされています。商用ツールではなく産学連携でシミュレーションの活用を進めることは、詳細なモデリングがブラックボックスにならず、使用者の科学的な洞察を反映しやすいという大きなメリットがあります。

一方で大学研究者が作成したシステムを他のユーザが利用できるようなIT関連の整備を行う役割が大学側にもユーザー企業側にも不在であることが、多くのケースで産学連携を困難にしています。当事業ではこの不足部分を担い、大学の持つ知的資産を広く社会実装することを目指します。


【業務内容】　
・連携する研究機関の調査・選定支援
・ユーザー入出力機能・マニュアルの作成
・ソースコード自体のメンテナンス、リファクタリング
・物理・化学モデリングの検討、新機能開発・実装
・IT環境の導入支援

用途例

・表面波プラズマの電磁場解析
半導体製造プロセスで多く用いられるのは容量結合型／誘導結合型放電という方式で、商用シミュレーションツールの応用例も豊富ですが、高密度のプラズマを生成する表面波モードのマイクロ波励起プラズマに対応した商用ツールは少数です。一方、例えば金属機械部品の摩擦低減のためのダイヤモンドライクカーボン(DLC)成膜手法として表面波プラズマは注目されていて、シミュレーションの研究もされています。このようなシミュレーションシステムの実用化を行います。

・デバイス微細加工・成膜時の形状進展の解析
形状進展シミュレーションは歴史の長い商用ツールがありますが、ウエットエッチングや化学的気相反応(CVD)など個々の加工プロセスについて物理・化学モデルが十分に備わっているとは言えません。また、大手半導体メーカーが生産するプロセッサやメモリ向けではなく、例えばマイクロLED作製のための窒化ガリウム(GaN)の成膜・加工などの用途では応用例が少なく、大手ベンダの商用ツールでは対応が困難です。上記のようなプロセスや用途に特化した形状進展シミュレーションの実現します。

・結晶の液相成長の解析
液相成長による単結晶材料の製造は、半導体向けのシリコンウエハを始めとして日本の得意分野であり、結晶成長過程の数値シミュレーションの研究も盛んに行われてきましたが、商用ツールは少数です。一方で単結晶材料開発の研究は近年も盛んであり、大学発ベンチャーによる事業化も目立ちます。液相成長は長時間を要するため、シミュレーションによるプロセス最適化・生産効率の向上を実現します。