試作・開発品の受託加工及びシェアＬａｂ.を活用出来ます。
★都内からのアクセス抜群
★受託加工でもあらゆる材質への加工が可能。
★非熱・非接触加工で高精度ドライ加工が特徴ですので
新たな加工方法改善にお役立ちします。
★自由度が高いシェアリングラボ
・第2のラボとして！
・研究プロジェクトを始める前の予備実験などに！
・自社で行えないサイドプロジェクトを行う場としての使用
物理気相成長（PVD）、化学気相成長（CVD）、プラズマエッチング、電子ビーム、露光プロセスなどの半導体製造・薄膜加工や検査工程に関する数値計算システムの導入支援を行います。当事業では商用ツールではなく大学の研究室等で開発されているシステムの産学連携による活用を想定しています。海外大学・研究機...
・表面波プラズマの電磁場解析
半導体製造プロセスで多く用いられるのは容量結合型／誘導結合型放電という方式で、商用シミュレーションツールの応用例も豊富ですが、高密度のプラズマを生成する表面波モードのマイクロ波励起プラズマに対応した商用ツールは少数です。一方、例えば金属機械部品の摩擦低減のためのダイヤモンドライクカーボン(DLC)成膜手法として表面波プラズマは注目されていて、シミュレーションの研究もされています。このようなシミュレーションシステムの実用化を行います。
・デバイス微細加工・成膜時の形状進展の解析
形状進展シミュレーションは歴史の長い商用ツールがありますが、ウエットエッチングや化学的気相反応(CVD)など個々の加工プロセスについて物理・化学モデルが十分に備わっているとは言えません。また、大手半導体メーカーが生産するプロセッサやメモリ向けではなく、例えばマイクロLED作製のための窒化ガリウム(GaN)の成膜・加工などの用途では応用例が少なく、大手ベンダの商用ツールでは対応が困難です。上記のようなプロセスや用途に特化した形状進展シミュレーションの実現します。
・結晶の液相成長の解析
液相成長による単結晶材料の製造は、半導体向けのシリコンウエハを始めとして日本の得意分野であり、結晶成長過程の数値シミュレーションの研究も盛んに行われてきましたが、商用ツールは少数です。一方で単結晶材料開発の研究は近年も盛んであり、大学発ベンチャーによる事業化も目立ちます。液相成長は長時間を要するため、シミュレーションによるプロセス最適化・生産効率の向上を実現します。
有機化学合成受託、設計、アドバイスなど、まずはご相談ください。
■過去の研究実績一例
抗がん剤パクリタキセル及びドセタキセルの半合成法の開発とそれらの類縁体への展開
パクリタキセル及びドセタキセルの側鎖前駆体製法の開発（製法特許保有）
抗インフルエンザ薬のタミフルの合成法の開発（製法特許保有）
抗炎症薬ロキソプロフェンの活性種の合成法の開発
酵素による２級アルコールの光学分割及び合成への応用
種々のパラジウム触媒反応の開発
イオウ化合物を活用する合成反応の開発
多段階を要する天然物の合成法の開発
