検索結果:機器訪問利用カテゴリ「電子ビーム」(3件)
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茨城県
機器訪問利用
電子線を絞って電子ビームとして対象に照射し、対象物から放出される二次電子、反射電子(後方散乱電子、BSE)、透過電子、X線、カソードルミネッセンス(蛍光)、内部起電力等を検出する事で対象を観察出来る装置です。
可能な実験例
〇レジストのパターン形成の観察
露光、現像後の半導体のパターンを観察することができます。
〇複合材料(樹脂)の断面の観察
フィラーや強化繊維などを樹脂に分散させた際に、断面観察により分散状態を観察することができます。
〇電極断面の観察
LEDの金属電極断面について、低加速電圧で反射電子像を観察することにより、金属薄膜の結晶の状態を観察することができます。
〇金属材料の破損原因の分析
金属材料が破損した際に、原因を分析する1つの手段として、破断面の状態を観察し、原因を分析することができます。
※組織により上記実験ができない場合がございます。
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茨城県
機器訪問利用
電子プローブマイクロアナライザ(EPMA)は、物質表面に電子線を照射して、そこから発生する特性X線を計測し、試料を構成する元素とその量を測定することができます。
可能な実験例
◯物質の構成元素の定量分析
物質を構成する元素の強度比から、定量分析が可能です。電子顕微鏡観察面での分析であり、試料全体の定量分析ではないことに注意が必要です。また標準試料を用いることによって、定量の精度が向上します。
◯物質の構成元素の定性分析
検出したX線の波長からどのような元素が含まれているかわかり、未知物質の組成推定に用いることができます。検出限界は 程度で、0.001質量%(重元素の場合)で、微量成分の分析には向きません。
◯相分離構造のマッピング分析
観察面の各位置から検出された特性X線波長を各元素ごとに色分けすることにより、元素マッピング分析が可能です。合金、磁石、鉱石などの相分離構造観察などに活用されます。
◯デバイスの縦方向組成分析
半導体などのデバイス断面を観察することで、各層を構成する元素組成がわかります。デバイス構成によっては層膜厚が分解能以下であるため、各層の組成ずれや層間の元素拡散の度合いが定性的にわかります。
◯汚染、不純物の組成特定
製品の不良解析や原因推定の際に有効な手段です。例えば不良があった半導体製品の表面に意図せず付着しているドロップレットの構造、組成が分かると、原因特定に役立ちます。
※組織により上記実験ができない場合がございます。
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神奈川県
機器訪問利用
電子顕微鏡として各種素材の表面を観察するだけでなく、集束イオンビームを使用して、半導体、金属素材などの各種材料の微細な表面加工を行うとともに、断面形状を観察することができます。 オプションとして、EDS(元素分析)、EBSD(結晶構造解析)を行うことができます。
可能な実験例
・SEM画像観察
・サンプルの電子ビーム加工
・真空中での断面加工部観察とEDS元素分析
・EBSD結晶構造解析