検索結果:機器訪問利用カテゴリ「SEM」(12件)
神奈川県
機器訪問利用
おすすめ
本装置は、冷陰極電界放出形電子銃を装備した走査型電子顕微鏡です。
セミインレンズタイプでUpper/Lowerの2つの検出器を搭載しており二次電子、反射電子の同時観察やリターディング機能により低照射電圧超高分解能観察が可能です。
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茨城県
機器訪問利用
電子線を絞って電子ビームとして対象に照射し、対象物から放出される二次電子、反射電子(後方散乱電子、BSE)、透過電子、X線、カソードルミネッセンス(蛍光)、内部起電力等を検出する事で対象を観察出来る装置です。
可能な実験例
〇レジストのパターン形成の観察 露光、現像後の半導体のパターンを観察することができます。
〇複合材料(樹脂)の断面の観察 フィラーや強化繊維などを樹脂に分散させた際に、断面観察により分散状態を観察することができます。
〇電極断面の観察 LEDの金属電極断面について、低加速電圧で反射電子像を観察することにより、金属薄膜の結晶の状態を観察することができます。
〇金属材料の破損原因の分析 金属材料が破損した際に、原因を分析する1つの手段として、破断面の状態を観察し、原因を分析することができます。
※組織により上記実験ができない場合がございます。
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茨城県
機器訪問利用
SEM(走査型電子顕微鏡)にEDX(エネルギー分散型X線分析装置)を装備しており、観察領域における組成分析・元素マッピングができます。
可能な実験例
○部品の破損原因の特定 劣化して破損してしまった部品を表面分析することにより、本来部品に含まれていない成分などの有無を調べ、外的要因がないかどうかを判断することができます。
○金属中の変色調査 変色してしまった金属製品を測定しマッピング分析をすることにより、変色箇所に含まれる成分を特定することができます。
○無機物質の大まかな材料判定 未知の無機物質を測定し、標準試料のデータと照らし合わせることで無機物質の大まかな材料判定をすることができます。
○電子基板上の微小異物の分析 電子基板上に発生した微小異物の元素分析をすることにより、有機物か無機物かを判別することができます。
※組織により上記実験ができない場合がございます。
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神奈川県
機器訪問利用
電子顕微鏡として各種素材の表面を観察することができます。 オプションとして、EDS(元素分析)、CL(カソードルミネッセンス解析)を行うことができます。
可能な実験例
・SEM画像観察
・EDS元素分析
・CLカソードルミネッセンス解析
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神奈川県
機器訪問利用
電子顕微鏡として各種素材の表面を観察するだけでなく、集束イオンビームを使用して、半導体、金属素材などの各種材料の微細な表面加工を行うとともに、断面形状を観察することができます。 オプションとして、EDS(元素分析)、EBSD(結晶構造解析)を行うことができます。
可能な実験例
・SEM画像観察
・サンプルの電子ビーム加工
・真空中での断面加工部観察とEDS元素分析
・EBSD結晶構造解析
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神奈川県
機器訪問利用
厚さ100nm以下の透過電子顕微鏡用の超薄切片を作製することが出来ます。
おすすめ
ダイヤモンドナイフを用いてバルク試料を切削し、厚さ100nm以下の透過電子顕微鏡用の超薄切片を作製することが出来ます。一方、SEMあるいはAFM観察で必要な高い面精度の断面作製にも活用できます。
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東京都
機器訪問利用
集束したイオンビームを試料に照射し、加工や観察を行う装置です。
可能な実験例
◯SIM観察 イオンのスパッタ時に放出される二次電子を信号として可視化することにより画像として得られます。SIM像は、SEM像に比べて組成や結晶方位のコントラストが強く現れるため、金属などの微細構造組成の分布観察や結晶粒の観察などに適しています。
◯マイクロサンプリング 透過型電子顕微鏡(TEM:Transmission Electron Micro-scope)などにより微少領域を観察する際などに用いる微少ブロックの形成(マイクロサンプリング法)に用いられます。TEM 試料台に搭載後、ビームの特性とマニピュレータ機能を組み合わせて、厚さ100nm程度の目的部位を摘出します。またFIB加工と顕微鏡観察を繰り返し、得られた連続画像をコンピューター上で再構成することにより、試料の三次元構造解析が可能となります。
◯破断の難しい試料の電子顕微鏡観察像取得 試料の断面構造を観察する場合に、破断の難しい試料(金属や有機物など柔らかく、破断前後で形状が変わってしまうの)にも機械的なストレスを与えることなく断面を得ることができます。例として半田ボールの断面加工や有機系太陽電池などが挙げられ、EDXなどの組成分析とあわせて活用できます。
◯微少領域の断面加工 試料が均質でなく、観察したい箇所が試料断面の一部分や数μm程度の大きさである場合も、SIM観察しながら細く絞ったビームで断面加工を行うことができます。例として基板上の異物観察による成長メカニズム解析、めっきの不良箇所、未着部分観察など、狙って断面を出すことが難しい試料でも加工を行うことができます。
※組織により上記実験ができない場合がございます。
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東京都
機器訪問利用
料と探針の原子間にはたらく力を検出して画像を得る装置です。
可能な実験例
◯膜厚測定 基材と薄膜界面近辺を測定することにより、膜厚がわかります。例として蒸着膜やSAMs、LB膜などが挙げられます。分子構造と膜厚から層数がわかることもあります。
◯原子レベル平坦結晶面の観察研磨した単結晶基板や単結晶のへき開面などは原子レベルで平坦なことがあり、AFMによりステップ&テラス構造が観察されることがあります。結晶面の成長過程観察により成長メカニズムの解明に役立ちます。
◯表面荒さの測定 観察した表面の荒さや凹凸の度合いを測定することができます。平均面荒さ(Ra)や自乗平均面荒さ(RMS)、面内最大高低差(Rmax)といった数値であらわされます。
◯生体材料の測定 タッピングモードやノンコンタクトモード測定などを用いることにより、対象物を破壊することなく測定することができます。柔らかく変位し易い生体材料などの表面測定に適しており、プローブのしなりなどから細胞膜の弾性率などを測定することもできます。
※組織により上記実験ができない場合がございます。
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