取得データに合わせた解析コードやソフトウェアの開発をサポート。時間のかかる解析業務を外部化することで、研究の工数を大幅に短縮することができます。
①リサーチャー自らエンジニアとタッグを組んで研究を支援。通常のソフトウェアメーカーよりもスムーズなコミュニケーションや現役研究者が担当するからこそ、「かゆいところに手が届く」サポートが可能です。
②脳・神経科学、画像解析を中心とした豊富な解析経験、ソフトウェア開発実績あり
①取得したデータを研究室内で整理したい時に
②解析環境を研究室で統一・記録して残しておきたいしたい時に
③ご自身の解析を世界に発信したい時に（Webアプリとして公開する事が可能です。もちろん、研究室内のみでのご利用も可能です）
【ソフトウェアを作成するからこそできること】
・GUI ワークフロー
コードではなく、視認性が高いGUI、ローコードでの解析設計を開発する事で、研究室に入りたての学生さんも快適に解析ができます。
・Visualize
ワンクリックで簡単に解析結果を可視化。ご要望に応じ多彩なプロットオプションを提供します。
・Record
ワークフローを記録し、再現・共有をしやすくすることで、
「あのとき解析した手法」をもう一度試すしたり、改善しやすくなります。
・Share
Web解析のアプリケーションとし、論文に記載をする事で、ご自身の解析方法を世界に発信/デファクトスタンダードとする第一歩となります。
物理気相成長（PVD）、化学気相成長（CVD）、プラズマエッチング、電子ビーム、露光プロセスなどの半導体製造・薄膜加工や検査工程に関する数値計算システムの導入支援を行います。当事業では商用ツールではなく大学の研究室等で開発されているシステムの産学連携による活用を想定しています。海外大学・研究機...
・表面波プラズマの電磁場解析
半導体製造プロセスで多く用いられるのは容量結合型／誘導結合型放電という方式で、商用シミュレーションツールの応用例も豊富ですが、高密度のプラズマを生成する表面波モードのマイクロ波励起プラズマに対応した商用ツールは少数です。一方、例えば金属機械部品の摩擦低減のためのダイヤモンドライクカーボン(DLC)成膜手法として表面波プラズマは注目されていて、シミュレーションの研究もされています。このようなシミュレーションシステムの実用化を行います。
・デバイス微細加工・成膜時の形状進展の解析
形状進展シミュレーションは歴史の長い商用ツールがありますが、ウエットエッチングや化学的気相反応(CVD)など個々の加工プロセスについて物理・化学モデルが十分に備わっているとは言えません。また、大手半導体メーカーが生産するプロセッサやメモリ向けではなく、例えばマイクロLED作製のための窒化ガリウム(GaN)の成膜・加工などの用途では応用例が少なく、大手ベンダの商用ツールでは対応が困難です。上記のようなプロセスや用途に特化した形状進展シミュレーションの実現します。
・結晶の液相成長の解析
液相成長による単結晶材料の製造は、半導体向けのシリコンウエハを始めとして日本の得意分野であり、結晶成長過程の数値シミュレーションの研究も盛んに行われてきましたが、商用ツールは少数です。一方で単結晶材料開発の研究は近年も盛んであり、大学発ベンチャーによる事業化も目立ちます。液相成長は長時間を要するため、シミュレーションによるプロセス最適化・生産効率の向上を実現します。
