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PCなどで作成したパターンデータを、フォトマスクなしで直接基板上のフォトレジストに転写する装置です。 半導体や金属材料に微細な加工を施すことができ、容易に試作をすることができます。
クリーンルーム(クラス1000~10000)や、スパッタ、電子ビーム蒸着装置、マスクレス露光装置、SPM (走査型プローブ顕微鏡)を完備しています。半導体に関する幅広い実験に対応しています。
ウイルスを用いた不活化効果の評価試験に対応しています。 23m³(約6畳)の試験室を用いた噴霧試験が可能で、空間中の浮遊ウイルスおよび付着ウイルスに対する効果を確認できます。日本電機工業会 JEM1467 に準拠した試験条件での評価が可能です。
プラズマを利用したガスによって加工する方法をドライエッチングと呼び、半導体に精密な凹凸を形成することができます。
※組織により上記実験ができない場合がございます。