検索結果：すべてのカテゴリ「RIE」（6件）

廃液の対応可能　※要相談
機器の持ち込み可

・有機実験
・化学実験
・有機材料構造解析

廃液の対応可
機器の持ち込み可
居室　シェアあり
ラボ駐車場利用可能

化学実験
材料科学実験
無機材料合成
ガス分析実験

基礎研究用（化学・バイオ）
開発用
研修用

・細胞培養から汎用的な分子生物学実験が完結できるP2実験室
・機器の持ち込みが可能
・臨床検体の取り扱いが可能

細胞の培養や臨床検体などを用いた分子生物学的解析が可能です。
試薬調製/タンパク定量/ウエスタンブロッティング/western blotting/PCR/細胞増殖/セルベースアッセイ/アガロースゲル電気泳動/核酸抽出/RNA抽出/DNA抽出/タンパク質抽出/核酸精製/in_vitro試験/SDS-PAGE/ライブラリー調製/遺伝子組み換え/遺伝子編集/CRISPR-Cas9/ノックダウン実験/siRNA導入/蛍光染色/免疫染色/他

・メッセンジャーやタンパク質レベルでの遺伝子発現量の解析
・化合物や開発品の効果/薬効の解析や作用メカニズム/薬理の解析
・毒性試験や安全性試験
・医薬品や化粧品の細胞評価
・自社で行えないサイドプロジェクトを行う場としての使用

E.coli
T7 promoter Expression strains:
BL21(DE3), BL21-Gold (DE3), BL21-GoldBL21(DE3)pLysS, Rosetta2(DE3), Rosetta2(DE3)pLysS, BL21(DE3)AI, T7 express, KRX
Tac promoter expression strains:
Novablue & Top10

Baculo-insect
Sf9, Sf21, Hi5

Mammalian
Variety of suspension cell lines

赤外吸収分光計(IR)はサンプルに赤外線を照射し、それによるサンプルの物質がどの周波数（通常は波数）の赤外線を吸収しているかを測定する装置です。分子や原子はそれぞれ固有の振動をしていますが、波長（スペクトル上では波数）を連続的に変化させながら赤外線(infrared : IR)を照射すれば、分子の固有振動と同じ周波数のIRが吸収され、分子の構造に応じたスペクトルが得られるはずです。これにより、サンプルが予測できるものであれば、既知のスペクトルと比較して、同定、確認ができますし、また、多重結合、官能基、シス－トランス異性、水素結合などの分子構造に関する知見を得ることもできます。
なお、実際の測定原理は干渉計を利用したフーリエ分光法を用いていて、より高い波数の再現性を持っています。現在はこれらのFT-IRが一般的になっています。検出器は、焦電型のDTGS検出器と、半導体型のMCT検出器を備え、高感度分析にも対応しています。

試料は、サンプルセルを換えることにより、固体、液体の状態で測定できます。通常、固体はサンプルをKBrに分散させるKBr法、液体は原液のまま測定する液膜法と溶媒に溶かす溶液法を用います。また、1回反射ATRユニットや高感度反射ユニットを用いることで固体、液体、フィルム状など、様々な状態の試料にも対応できます。その他、顕微IR用の顕微鏡アタッチメントを比較的簡単に据え付けることができ、微少領域の測定をすることが可能です。

有機化合物の構造解析、材料の表面・バルク分析、マイクロ粒子の分析

・透過法セルホルダや各種ユニットを使用することで、様々な試料状態（液体・粉末・固形物・気体など）の非破壊による測定ができて、試料の分子構造解析ができます。
・スペクトルデータと比較することにより、成分分析ができることがあります（ただし、付属のデータベースはないため別途スペクトルデータが必要です）。
・顕微法を用いることにより、10μm以上のサイズの粒子などを分析することができます。
・高分子材料の表面・バルクの分析をすることができます。
・高感度反射測定により、金属表面の分子膜などを測定できます。

〇バレル型プラズマエッチング装置

円筒型の石英管の周りに電磁誘導コイル、または一対の容量結合電極を設置し、RFパワーを印加することによってプラズマが生成されます。
レジストのアッシングに用いられています。

〇CCPプラズマエッチング装置

CCP（容量結合型プラズマ）は平行平板型の一対の電極間にRFパワーを印加することによってプラズが生成されます。平行平板型RIE（反応性イオンエッチング）装置とも呼ばれています。
SiO2のエッチングに用いられています。

〇マグネトロンRIE装置

電界と磁界の相互作用で電子をサイクロイド運動させることによって、高密度プラズマが生成されます。RIEに永久磁石または電磁コイルで形成した磁界を加えたものです。
SiO2のエッチングに用いられています。

○ECRプラズマエッチング装置

ECRとは電子サイクロトロン共鳴と呼ばれ、マイクロ波の電界と磁場の静磁界の共鳴作用で電子がサイクロトロン運動をするので、高密度プラズマを生成することが出来ます。
導電性材料であるゲート材料やSi、Al配線などの微細加工に用いられています。

○ICPプラズマエッチング装置

ICPとは誘導結合型プラズマと呼ばれ、高周波電流をコイルに流して形成された磁界によって高密度プラズマが生成されます。
導電性材料であるゲート材料やSi、Al配線などの微細加工に用いられています。

○ヘリコーン波プラズマエッチング装置

ICPプラズマエッチング装置にさらに直流磁界を付加して高密度プラズマを生成する装置です。

※組織により上記実験ができない場合がございます。