検索結果：すべてのカテゴリ「寸法」（8件）

2022年4月に新設したばかりで、非常にきれいです。
クリーン度：ISO146644-1規格　class6対応
　　　　　　米国連邦規格　1000
洗浄度測定報告書あります。
クリーン環境が必要なカテゴリーにほぼ対応のクリーン度を実現！

半導体関係の装置製造、組み立て、試験。
食品関係設備の装置製造、組み立て、試験。

＜主性能（能力範囲）＞
温度範囲：-40～+100℃
槽内寸法：W1150×D700×H700[mm]
開口部寸法(配線等出入り口)　Φ100㎜×2
安全増し装備：水素ガス検知、槽内圧検知

・高温試験
・低温試験
・温度サイクル試験

・第2のラボとして！
・研究プロジェクトを始める前の予備実験などに！
・自社で行えないサイドプロジェクトを行う場としての使用

各温度域での温度ストレスによる製品特性、物性の劣化評価

＜主性能（能力範囲）＞
温度範囲：(外周温度+20)℃～200℃
槽内寸法：W800×D800×H1200[mm]
開口部寸法(配線等出入り口)　Φ100㎜×4

・高温放置試験
・高温作動試験
・熱処理

・第2のラボとして！
・研究プロジェクトを始める前の予備実験などに！
・自社で行えないサイドプロジェクトを行う場としての使用

高温度域での温度ストレスによる製品特性、物性の劣化評価

＜主性能（能力範囲）＞
温度：-75℃～205℃
槽内寸法：W410×D370×H460[mm]
試験品最大重量：30kg
開口部寸法(配線等出入り口)：Φ50㎜×1

熱衝撃試験

・第2のラボとして！
・研究プロジェクトを始める前の予備実験などに！
・自社で行えないサイドプロジェクトを行う場としての使用

高温と低温の短時間ストレスを与え、製品特性、物性の劣化評価

＜主性能（減圧、恒温性能）＞
圧力(kPa)：　9 〜 大気圧 (高度 23,000m相当, -20℃)
温度(℃)：　-20 ～ +80
槽内寸法(mm)： W800×D800×H709
圧力下降時間： 大気圧 → 11.6ｋPa, 60分以内で安定

高度試験
高度シミュレーション
減圧環境下での絶縁性能低下確認　など

・第2のラボとして！
・研究プロジェクトを始める前の予備実験などに！
・自社で行えないサイドプロジェクトを行う場としての使用

分析機器が豊富ですので、お客様のご要望に合わせた試験や検査が可能です。
まずはご相談ください。

【ご対応例】
・物理的分析・検査：外観、包装、表示、寸法、色度、濁度、圧縮強度、耐圧強度、引張強度、異物検査など
・化学的試験・検査：糖度、塩分、ｐH、酸価、水分活性、塩素濃度、
洗浄度（デンプン、たんぱく質、脂肪）、SDS電気泳動、
溶出物試験（重金属、蒸発残量売物、過マンガン酸カリウム還元物質）など

〇バレル型プラズマエッチング装置

円筒型の石英管の周りに電磁誘導コイル、または一対の容量結合電極を設置し、RFパワーを印加することによってプラズマが生成されます。
レジストのアッシングに用いられています。

〇CCPプラズマエッチング装置

CCP（容量結合型プラズマ）は平行平板型の一対の電極間にRFパワーを印加することによってプラズが生成されます。平行平板型RIE（反応性イオンエッチング）装置とも呼ばれています。
SiO2のエッチングに用いられています。

〇マグネトロンRIE装置

電界と磁界の相互作用で電子をサイクロイド運動させることによって、高密度プラズマが生成されます。RIEに永久磁石または電磁コイルで形成した磁界を加えたものです。
SiO2のエッチングに用いられています。

○ECRプラズマエッチング装置

ECRとは電子サイクロトロン共鳴と呼ばれ、マイクロ波の電界と磁場の静磁界の共鳴作用で電子がサイクロトロン運動をするので、高密度プラズマを生成することが出来ます。
導電性材料であるゲート材料やSi、Al配線などの微細加工に用いられています。

○ICPプラズマエッチング装置

ICPとは誘導結合型プラズマと呼ばれ、高周波電流をコイルに流して形成された磁界によって高密度プラズマが生成されます。
導電性材料であるゲート材料やSi、Al配線などの微細加工に用いられています。

○ヘリコーン波プラズマエッチング装置

ICPプラズマエッチング装置にさらに直流磁界を付加して高密度プラズマを生成する装置です。

※組織により上記実験ができない場合がございます。

・製品/試作機などの周囲環境評価
・エージング
など

・モニター設置環境試験
・機器の温度上昇試験
・耐湿度試験
・環境が人に及ぼす影響評価
などの性能試験や信頼性評価試験に利用できます。