各種ドラフトなどの有機合成の汎用装置が充実の実験室。広さも合計150㎡と広く、一般的な試薬も一通り完備。有機合成・天然物合成の技術相談も歓迎。土曜日や平日18時以降も利用可能なので、掛け持ち利用も可能。
・一般的な試薬を一通り完備し、全般的な有機合成が可能
・合計150㎡で開放的な実験室
・土曜日や平日18時以降も利用可能
・機器の持ち込みが可能
無機材料合成、材料評価が行えるラボ。ドラフトや焼成炉、GC、分光装置、質量分析装置などを完備しています。
磁場中の試料にマイクロ波を照射して電子スピンの信号を観測します。試料中のラジカル種の定性・定量や常磁性物質の同定が可能です。90から400ケルビンまでの広い温度範囲で測定が可能です。スペクトルの解析についても相談に応じます。試料の回収が可能です。
試験方法の要望対応可能
試験計画の立案可能
低分子の合成から細胞での活性評価が可能な実験室。化学分析のHPLCや分光光度計や、生化学分析のプレートリーダーなど分析機器も充実。医薬品の候補化合物のスクリーニングや最適化、化粧品や健康食品の細胞評価が可能です。
・低分子の合成から細胞での活性評価まで完結できる
・化学分析や生化学解析の機器が充実
・合計150m2以上の広い実験室
有機化学、高分子化学、マイクロ波化学を基盤として環境にやさしい機能性材料の開発を目指して研究に取り組んでいます。
■企業等との連携可能テーマ
・ケミカルリサイクルを指向した機能性高分子の合成
・マイクロ波照射を利用した省エネルギー化学合成
・有機―無機ポリマーハイブリットをはじめとする環境ナノ材料の創成
■技術の用途
構造材料、光学材料、耐熱材料など
物理気相成長(PVD)、化学気相成長(CVD)、プラズマエッチング、電子ビーム、露光プロセスなどの半導体製造・薄膜加工や検査工程に関する数値計算システムの導入支援を行います。当事業では商用ツールではなく大学の研究室等で開発されているシステムの産学連携による活用を想定しています。海外大学・研究機...
・表面波プラズマの電磁場解析
半導体製造プロセスで多く用いられるのは容量結合型/誘導結合型放電という方式で、商用シミュレーションツールの応用例も豊富ですが、高密度のプラズマを生成する表面波モードのマイクロ波励起プラズマに対応した商用ツールは少数です。一方、例えば金属機械部品の摩擦低減のためのダイヤモンドライクカーボン(DLC)成膜手法として表面波プラズマは注目されていて、シミュレーションの研究もされています。このようなシミュレーションシステムの実用化を行います。
・デバイス微細加工・成膜時の形状進展の解析
形状進展シミュレーションは歴史の長い商用ツールがありますが、ウエットエッチングや化学的気相反応(CVD)など個々の加工プロセスについて物理・化学モデルが十分に備わっているとは言えません。また、大手半導体メーカーが生産するプロセッサやメモリ向けではなく、例えばマイクロLED作製のための窒化ガリウム(GaN)の成膜・加工などの用途では応用例が少なく、大手ベンダの商用ツールでは対応が困難です。上記のようなプロセスや用途に特化した形状進展シミュレーションの実現します。
・結晶の液相成長の解析
液相成長による単結晶材料の製造は、半導体向けのシリコンウエハを始めとして日本の得意分野であり、結晶成長過程の数値シミュレーションの研究も盛んに行われてきましたが、商用ツールは少数です。一方で単結晶材料開発の研究は近年も盛んであり、大学発ベンチャーによる事業化も目立ちます。液相成長は長時間を要するため、シミュレーションによるプロセス最適化・生産効率の向上を実現します。
プラズマを利用したガスによって加工する方法をドライエッチングと呼び、半導体に精密な凹凸を形成することができます。
※組織により上記実験ができない場合がございます。