検索結果：すべてのカテゴリ「密度」（9件）

廃液の対応が可能です。※有害物質（Cd、Pb）不可
機器のお持ち込みも可能です。

・化学実験
・分析実験
・無機化学
・材料合成

・基礎研究用（化学・バイオ）
・受託試験用
・開発用
・研修用

試験方法の要望対応可能
試験計画の立案可能

固体（樹脂やエラストマー・ゲル）、液体（インクジェットインク、コーティング剤、塗料）

試験方法の要望対応可能
試験計画の立案可能
半導体工学の専門家によるアドバイスや共同研究が可能

半導体開発

1.エンジニアリング系；軽量高耐熱性のガスタービン部材，航空機用耐熱部材，
2. エレクトロニクス系；高磁束密度，高周波での高透磁率，EV用電源機器

・ハイスペックな分子生物学の解析機器が充実
・20時まで利用可能
・機器の持ち込みが可能

株化細胞などを用いた分子生物学的な試験から化合物評価のHTSも可能です。
タンパク定量/BCAアッセイ/ELISA/リアルタイムPCR/細胞増殖/セルベースアッセイ/アガロースゲル電気泳動/核酸抽出/RNA抽出/DNA抽出/タンパク質抽出/核酸精製/in_vitro試験/化合物スクリーニング/プレートベースアッセイ/ライブラリー調製/遺伝子組み換え/遺伝子編集/CRISPR-Cas9/ノックダウン実験/siRNA導入/蛍光染色/免疫染色/ライブイメージング/HTS/化合物スクリーニング/蛍光イメージング/薬効評価/薬理評価/他

・ドラックリポジショニング研究(DR研究)のテーマ検証に
・病態解明や治療薬などの薬理研究
・HTSなどの大規模スクリーニング試験の専用ラボとして
・メッセンジャーやタンパク質レベルでの遺伝子発現量の解析
・共焦点顕微鏡でのイメージング解析
・医薬品や化粧品の細胞評価
・第2のラボとして！
・研究プロジェクトを始める前の予備実験などに！
・自社で行えないサイドプロジェクトを行う場としての使用

電子顕微鏡は、光の代わりに電子（電子線）をあてて拡大する顕微鏡のことです。観察物質の構造や構成成分の違いにより電子線の透過能が異なるので、場所による透過電子の密度の違いを透過顕微鏡像として得ます。透過型電子顕微鏡では、極薄い試料を用いますが、数十万倍にも拡大した像を得ることができます。さらに、原子の周期的な配列に対応した回折現象を利用して、電子回折像が得られます。これは、物質（試料）の性質、特に結晶構造や格子欠陥に関わる重要な情報です。

形態観察、結晶構造解析、元素分析

機能性表示食品・特定保健用食品・サプリメントなどの成分確認・有効性評価試験が可能です。
高い品質と再現性でエビデンス取得、データ解析、論文作成の支援します。

【提供試験のポイント】
ヒトや動物検体、細胞を用いた有効性試験をサポートします。
無血清培地の使用、多様な細胞種類の提供、ヒトへの投与など、ご希望に合わせた試験内容をご提案致します。

独自のネットワークにより、基礎研究だけでなく大学やクリニックと連携した臨床試験を実現します。

【機能性一覧】
血糖、血圧、脂肪、皮膚、アレルギー、免疫、炎症、細胞増殖、骨、酸化ストレス

【試験対象検体】
食品素材、医薬部外品など

【健康食品の機能性評価】
・ヒトや動物検体
・CHO、HEK等の一般的な培養細胞株
・初代培養細胞
・ES細胞、iPS細胞に対する健康食品・サプリメントの機能性評価が可能

【可能な試験例】
・血糖値上昇抑制試験（食後血糖抑制・糖代謝作用）
・中性脂肪上昇抑制試験（コレステロール改善）
・抗疲労試験（肩こり・筋肉痛・持久力）
・花粉症改善効果試験（アレルギー・鼻炎）
・アルコール代謝試験（肝機能・尿酸値）
・アンチエイジング試験（抗酸化・抗糖化・細胞活性試験）
・関節・筋肉試験（関節痛・筋肉減少・骨密度）
・ストレス低減試験
・冷え症改善効果試験

○合金めっき膜圧の測定

合金めっきをした試料材料を測定し各成分のスペクトルを分析することによって密度、付着量、膜厚を求めることができます。

○基板の電極部周辺の面分析

基板の電極部分を測定し元素マッピングすることによって金属の分布を知ることができます。

○岩石の成分分析

岩石粉体状に砕き測定することで岩石に含まれる成分の種類と量などを分析することができます

○廃液の成分分析

廃液を液体のまま測定することによって、液中に含まれる成分や量などを分析することができます。

※組織により上記実験ができない場合がございます。

〇バレル型プラズマエッチング装置

円筒型の石英管の周りに電磁誘導コイル、または一対の容量結合電極を設置し、RFパワーを印加することによってプラズマが生成されます。
レジストのアッシングに用いられています。

〇CCPプラズマエッチング装置

CCP（容量結合型プラズマ）は平行平板型の一対の電極間にRFパワーを印加することによってプラズが生成されます。平行平板型RIE（反応性イオンエッチング）装置とも呼ばれています。
SiO2のエッチングに用いられています。

〇マグネトロンRIE装置

電界と磁界の相互作用で電子をサイクロイド運動させることによって、高密度プラズマが生成されます。RIEに永久磁石または電磁コイルで形成した磁界を加えたものです。
SiO2のエッチングに用いられています。

○ECRプラズマエッチング装置

ECRとは電子サイクロトロン共鳴と呼ばれ、マイクロ波の電界と磁場の静磁界の共鳴作用で電子がサイクロトロン運動をするので、高密度プラズマを生成することが出来ます。
導電性材料であるゲート材料やSi、Al配線などの微細加工に用いられています。

○ICPプラズマエッチング装置

ICPとは誘導結合型プラズマと呼ばれ、高周波電流をコイルに流して形成された磁界によって高密度プラズマが生成されます。
導電性材料であるゲート材料やSi、Al配線などの微細加工に用いられています。

○ヘリコーン波プラズマエッチング装置

ICPプラズマエッチング装置にさらに直流磁界を付加して高密度プラズマを生成する装置です。

※組織により上記実験ができない場合がございます。