検索結果：すべてのカテゴリ「O」（232件）

・酵母の培養用のジャーファーメンターが充実
・遺伝子導入から分析まで全ての解析が実験室内で完結
・凍結乾燥機、超遠心機、粒度分布計など関連機器も充実
・廃液の処理も施設で対応可

酵母や株化細胞（不死化細胞）などを用いた分子生物学的な試験、製剤学的または生化学的な分析の実施が可能です。
タンパク定量(BCAアッセイ)/リアルタイムPCR/セルベースアッセイ/アガロースゲル電気泳動/核酸抽出/RNA抽出/DNA抽出/タンパク質抽出/核酸精製/エクソソーム精製/in vitro試験/プレートベースアッセイ/ライブラリー調製/遺伝子組み換え/遺伝子編集(CRISPR-Cas9)/ノックダウン実験(siRNA導入)/粒度解析/粒度分布測定/低分子化合物の定量解析/他

・酵母を用いたエクソソームなどの製品開発の基礎研究
・メッセンジャーレベルでの遺伝子発現量の解析
・培養上清やエクソソームの精製
・第2のラボとして！
・研究プロジェクトを始める前の予備実験などに！
・自社で行えないサイドプロジェクトを行う場としての使用

・BSL2の細胞(HeLa、HEK293T、iPSなど)で遺伝子組み換えや遺伝子編集(ゲノム編集)ができます
・BSL2検体の取り扱いや実験のサポートも可能
・ウイルスベクターの構築から調製、導入までのDNAワークができます
・臨床検体を用いたゲノム解析やDNAマイクロアレイの作製も可能
・冷却超遠心機でのエクソソームの精製も可能

iPS細胞などの細胞または臨床検体などを用いたDNA解析/ゲノム解析の他、汎用的な分子生物学的な解析が可能です。
試薬調製/タンパク定量(BCAアッセイ)/質量分析/リアルタイムPCR/細胞増殖/セルベースアッセイ/アガロースゲル電気泳動/核酸抽出/RNA抽出/DNA抽出/核酸精製/エクソソーム精製/in vitro試験/DNAシーケンス解析/DNAマイクロアレイ解析/ライブラリー調製/遺伝子組み換え/遺伝子編集(CRISPR-Cas9)/ノックダウン実験(siRNA導入)/核酸導入/蛍光染色/免疫染色/他

・臨床検体の網羅的な遺伝子発現量の解析
・化合物や開発品の効果/薬効の解析や作用メカニズム/薬理の解析
・HTSなどの大規模スクリーニング試験の予備解析や条件検討
・毒性試験や安全性試験
・医薬品や化粧品の細胞評価
・培養上清やエクソソームの機能性評価

・機器の持ち込み可能
・廃液処理対応も可能
・委託実験については要相談
・技術指導については要相談
・居室有
・最先端機器（TEM、SEM）や、デバイス作製用クリーンルーム、バイオ実験室完備

・ナノエレクトロニクス材料作製・評価
・DNA、細胞培養、たんぱく質の解析、形態観察
・ナノカーボン材料合成、評価（フラーレン、カーボンナノチューブ、ナノグラファイト、グラフェン）
・バイオ、ナノ融合研究

・バイオセンサ開発
・マイクロ流路作製
・電子デバイス作製
・電子線描画装置によるレジストパーターン作製
・FIBを利用したTEM用薄膜作製
・コバルト内包カーボンナノアニオンのTEM像と制限視野回折観察
・空中配線された量子ドットを有するナノ電子デバイスのSEM観察
・デオキシリボ核酸（DNA）のAFM観察
・CMCマグネティックナノ粒子のFT-IR分析
・単層CNTのラマンマッピング
・量子ドットの励起蛍光すペクトル（NIR-PLE）
・XPSによるグラフェン構造の評価
・オージェ電子分光による酸化グラフェンの薄膜依存性
・飛行時間型二次イオン質量分析装置によるSiとO元素の深さ方向分布
・超電導材料の磁気特性（SQUID/VSM)測定
・硫酸銅のTG-DTA曲線
・カーボン材料の窒素ガス吸脱等温線（比表面積細孔分布計測）
・核およびアクチンフィラメントを蛍光染色した食道がん細胞の共焦点レーザー顕微鏡観察
・アポトーシスを起こしたJurket Cellsの蛍光染（セルソータ）
・ポリイプシロンカプロラクトンのMALDI-TOF-MSによる構造解析

・分析装置が揃っています
・低分子～高分子合成まで幅広い有機化合物合成に対応しています。

有機合成
高分子合成
化学実験
化学分析
ナノ材料評価

・フッ素を含む低分子、高分子化合物の合成、分析

赤外吸収分光計(IR)はサンプルに赤外線を照射し、それによるサンプルの物質がどの周波数（通常は波数）の赤外線を吸収しているかを測定する装置です。分子や原子はそれぞれ固有の振動をしていますが、波長（スペクトル上では波数）を連続的に変化させながら赤外線(infrared : IR)を照射すれば、分子の固有振動と同じ周波数のIRが吸収され、分子の構造に応じたスペクトルが得られるはずです。これにより、サンプルが予測できるものであれば、既知のスペクトルと比較して、同定、確認ができますし、また、多重結合、官能基、シス－トランス異性、水素結合などの分子構造に関する知見を得ることもできます。
なお、実際の測定原理は干渉計を利用したフーリエ分光法を用いていて、より高い波数の再現性を持っています。現在はこれらのFT-IRが一般的になっています。検出器は、焦電型のDTGS検出器と、半導体型のMCT検出器を備え、高感度分析にも対応しています。

試料は、サンプルセルを換えることにより、固体、液体の状態で測定できます。通常、固体はサンプルをKBrに分散させるKBr法、液体は原液のまま測定する液膜法と溶媒に溶かす溶液法を用います。また、1回反射ATRユニットや高感度反射ユニットを用いることで固体、液体、フィルム状など、様々な状態の試料にも対応できます。その他、顕微IR用の顕微鏡アタッチメントを比較的簡単に据え付けることができ、微少領域の測定をすることが可能です。

有機化合物の構造解析、材料の表面・バルク分析、マイクロ粒子の分析

・透過法セルホルダや各種ユニットを使用することで、様々な試料状態（液体・粉末・固形物・気体など）の非破壊による測定ができて、試料の分子構造解析ができます。
・スペクトルデータと比較することにより、成分分析ができることがあります（ただし、付属のデータベースはないため別途スペクトルデータが必要です）。
・顕微法を用いることにより、10μm以上のサイズの粒子などを分析することができます。
・高分子材料の表面・バルクの分析をすることができます。
・高感度反射測定により、金属表面の分子膜などを測定できます。

溶液、薄膜等の紫外～可視光域（190～900nm）での吸光度を測定します。ダブルビーム方式であるため、シングルビームより安定度の高い、研究向けの装置です。
物質の光学特性の評価だけでなく、薄膜の膜厚や、コロイド結晶の配列状態を調べたりするのに活躍しています。

化合物の光学特性の測定、公定法による定量

本装置は、薄層クロマトグラフ質量分析計（TLC-MS）と呼ばれる装置です。あらかじめ薄層クロマトグラフィ（TLC）によって成分を分離したTLCプレートを用意し、それを装置のホルダに取り付けることで、直接に成分分析ができる質量分析計となっています。TLCプレート用のホルダが付いていますが、それ以外でもガラス棒などに直接塗布して測定することもできます。

質量分析のイオン化には、いわゆる「アンビエントイオン化」を使った装置であり、DRAT (Direct Analysis in Real Time) という名前のイオン源装置を備えています。DARTは、ヘリウムガスをプラズマ放電により励起し、試料に吹き付けることでイオン化させる手法です。大気圧中において、試料とガスの接触によりイオン化しますので、真空チャンバーに入れたり、前処理をしたりする必要がありません。そのため、リアルタイムにスペクトルが取れ、簡単に測定することができます。

また、本装置は質量分離装置が四重極質量分析計（Q-MS）となっており、比較的高感度に測定できます。ただし、Q-MSは、スペクトル分解能が低いため、小数点以下の精密質量測定はできません。

有機化合物の定性分析・簡易分析

薄層クロマトグラフで分離した成分をそのまま直接分析できます。
ガラス管などに試料を付けて、大気圧下で測定することができます。

共焦点レーザー顕微鏡は、レーザースキャンによって試料の蛍光像を測定し、高倍率時に特に問題になる試料の厚さによる焦点のずれがない像が得られます。また、焦点を変化させて複数枚の像を測定し、PC上で再構成することで立体的な像を得ることもできます。本装置は正立型顕微鏡のため、主に蛍光染色されたスライドガラス上の試料等の測定に使用可能です。

透過試料の蛍光観察

本装置は、冷陰極電界放出形電子銃を装備した走査型電子顕微鏡です。

セミインレンズタイプでUpper/Lowerの2つの検出器を搭載しており二次電子、反射電子の同時観察やリターディング機能により低照射電圧超高分解能観察が可能です。

形態観察、元素分析

本装置は、全自動水平型多目的X線回折装置(XRD)です。

粉末、バルク、薄膜など多様なニーズに対応し、ガイダンス機能を持ったアプリケーションにより最適な測定条件で分析が行えます。また専用の解析アプリケーションにより定性分析、定量分析、結晶化度、配向度、結晶子サイズ分布、膜厚、残留応力など様々な解析が可能です。

・粉末、バルクの定性分析、定量分析（2θ/θ測定）
・薄膜試料の定性分析（2θ（斜入射）測定、インプレーン測定）
・結晶方位分布や配向性の分析（極点測定、ロッキングカーブ測定）
・結晶化度の分析（2θ/θ測定）
・粉末、バルクの高温での相変態、格子定数変化（温度制御2θ/θ測定）
・加工材料の残留応力分析
・単結晶基板とエピタキシャル薄膜の結晶方位関係、格子定数の解析（逆格子マップ測定）

粉末、バルク、薄膜の結晶構造解析