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DNA増幅させる装置です。

薄膜(はくまく)形成装置の一つで、半導体の表面に薄い膜を堆積する装置です。

チップをウエハーに接合する装置です

物質表面での光の入反射光の偏光状態の変化を測定し、薄膜の厚さ、屈折率や吸収係数などの光学定数、または、バルク材の光学定数を解析することができる装置です。非接触･非破壊にて測定が行えます。（http://www.5lab.co.jp/products_MARY.htm）

核磁気共鳴法（NMR）は、磁場中での原子核の共鳴現象を利用して、原子レベルの化学構造や分子運動性を解析できる手法です。 試料を溶媒に溶かすことなく測定するため、固体状態そのままの構造情報を得られます。

プラズマを利用したガスによって加工する方法をドライエッチングと呼び、半導体に精密な凹凸を形成することができます。

SEM(走査型電子顕微鏡)にEDX(エネルギー分散型X線分析装置)を装備しており、観察領域における組成分析・元素マッピングができます。

電子プローブマイクロアナライザ(EPMA)は、物質表面に電子線を照射して、そこから発生する特性X線を計測し、試料を構成する元素とその量を測定することができます。

電子顕微鏡として各種素材の表面を観察することができます。 オプションとして、EDS(元素分析)、CL(カソードルミネッセンス解析)を行うことができます。

電子顕微鏡として各種素材の表面を観察するだけでなく、集束イオンビームを使用して、半導体、金属素材などの各種材料の微細な表面加工を行うとともに、断面形状を観察することができます。 オプションとして、EDS(元素分析)、EBSD(結晶構造解析)を行うことができます。