集束したイオンビームを試料に照射し、加工や観察を行う装置です。
※組織により上記実験ができない場合がございます。
料と探針の原子間にはたらく力を検出して画像を得る装置です。
※組織により上記実験ができない場合がございます。
薄膜(はくまく)形成装置の一つで、半導体の表面に薄い膜を堆積する装置です。
※組織により上記実験ができない場合がございます。
物質表面での光の入反射光の偏光状態の変化を測定し、薄膜の厚さ、屈折率や吸収係数などの光学定数、または、バルク材の光学定数を解析することができる装置です。非接触・非破壊にて測定が行えます。(http://www.5lab.co.jp/products_MARY.htm)
紫外領域と可視領域の光の領域を用いて溶液の吸収スペクトルを測定し定量分析います。
電子線を絞って電子ビームとして対象に照射し、対象物から放出される二次電子、反射電子(後方散乱電子、BSE)、透過電子、X線、カソードルミネッセンス(蛍光)、内部起電力等を検出する事で対象を観察出来る装置です。