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工業材料のビッカース硬度測定に使う機械です。

Ｘ線を試料に照射した時に発生する蛍光Ｘ線のエネルギーや強度から、物質の成分元素や構成比率を分析できる装置です。

分子構造の決定、物質の同定を行う装置です。

観察対象に電子線をあて、透過した電子線の強弱から観察対象内の電子透過率の空間分布を観察する装置です。

薄膜(はくまく)形成装置の一つで、半導体の表面に薄い膜を堆積する装置です。

物質表面での光の入反射光の偏光状態の変化を測定し、薄膜の厚さ、屈折率や吸収係数などの光学定数、または、バルク材の光学定数を解析することができる装置です。非接触･非破壊にて測定が行えます。（http://www.5lab.co.jp/products_MARY.htm）

紫外領域と可視領域の光の領域を用いて溶液の吸収スペクトルを測定し定量分析います。

電子線を絞って電子ビームとして対象に照射し、対象物から放出される二次電子、反射電子（後方散乱電子、BSE）、透過電子、X線、カソードルミネッセンス（蛍光）、内部起電力等を検出する事で対象を観察出来る装置です。

化合物の同定・定量分析や、結晶構造の解析を行うことができます。

半導体及び金属材料などの結晶構造・欠陥構造・歪みなどを解析する装置。 反射率、膜厚・配向、小角散乱による粒径/空孔分布などの測定ができます。 製品や材料の品質・性能確認、不良解析などに利用できます。